潔凈手術室對溫、濕度有著特殊的要求，因為冬季醫(yī)生不宜多空衣服，而病人手術部位要暴露出來，手術室內(nèi)溫度（temperature)應比一般房間溫度高些。而夏季室溫過高又會引起醫(yī)生和病人出汗，不利于手術部位的衛(wèi)生和手術的順利進行，氣溫過高甚至會引起病人和醫(yī)生中暑，所以夏季手術室內(nèi)溫度又應比舒適性空調(diào)房間溫度低些。空氣的相對溫度過大過小都會給病人和醫(yī)生帶來不舒適感，相對濕度大還容易給某些細菌（fungus)提供迅速繁殖的條件并帶來其它危害。因此，根據(jù)國外資料統(tǒng)計，手術室內(nèi)應保持的空氣溫度：冬季為24～26℃，夏季23～26℃；全年的相對濕度為55%～60。
潔凈手術室對溫度（temperature)的要求呈現(xiàn)日益減小的趨勢（trend)。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)(Produce)的光刻曝光（exposure)工藝中，首先與細胞壁的脂類雙鍵起反應，穿破細胞壁，進入細胞壁內(nèi)，作用于外殼脂蛋白和內(nèi)面的脂多糖，使細胞的通透性發(fā)生改變，最后導致細胞溶解、壞死。殺菌（fungus)速度極快，殺滅不同特殊結構:莢膜、鞭毛、菌毛有不同的濃度閾值(threshold)。
實驗（experiment)室凈化工程濕度過高產(chǎn)生的問題更多。成都實驗室凈化每類生物安全防護實驗室根據(jù)所處理的微生物及其毒素的危害程度各分為四級。各級實驗室的生物安全防護要求依次為：一級最低，四級最高。成都實驗室裝修實驗室按歸屬可分為三類：第一類是從屬于大學或者是由大學代管的實驗室；第二類實驗室屬于國家機構，有的甚至是國際機構；第三類實驗室直接歸屬于工業(yè)企業(yè)部門，為工業(yè)技術的開發(fā)與研究服務。相對濕度超過55%時，冷卻(cooling)水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密(precise)裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅(silicon)片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電(是一種處于靜止狀態(tài)的電荷)力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體(semiconductor)器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)(Produce)最佳溫度（temperature)范圍為35—45%。
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